PVDの新型炉を開発 本社工場に導入＜トーヨーエイテック＞

トーヨーエイテック（広島市西区、本郷義昭社長）はこのほど、プレス金型、冷間圧造用工具、圧入ダイスなどの耐摩耗性、凝着防止に欠かせないＰＶＤ（物理的蒸着法）の新型炉を独自技術で開発し、本社工場に導入した。同社は、新型ＰＶＤ炉を戦略商品と位置付け「低温ＴｉＣ」（炭化チタン）のさらなる高品質・高性能化に向けて新たな市場開拓を始めた。
　新型炉は、大型のアーク式イオンプレーティングのＰＶＤ炉ＴＦ-７７８Ｎ型で、同社は２００８年に同形式の小型ＰＶＤ炉ＴＦ-７４４を自社開発し、本社工場に導入。翌２００９年には同形式の大型炉ＴＦ-７７８を同社東京工場に導入し、「低温ＴｉＣ」はじめＰＶＤコーティングの拡販を進めている。
　今回の新型炉開発と導入は、ＴＦ-７７８を全面的に刷新し、従来以上の高品質・高性能な膜を提供できる炉を新たに開発することで商品力のさらなる強化を図るのがねらい。同社は、今年度中に東京工場（埼玉県深谷市）にも導入を計画している。
　新型炉の主な特長は、高品質・高性能な膜の生成と新膜の生成が期待できる。特に、膜の結晶構造が最適化されることで、高硬度と高靱性を両立でき、成膜時のドロップレット（被膜原料であるターゲットにアーク放電する際、局所的にターゲットが液状化し、それが固体化しながら飛散することで、コーティングされる加工物に付着する表面処理事業の売上高を、現状（今期）の27億円から中期的には30億円を超す事業に成長させる予定。

日本産機新聞 平成26年(2014年)4月25日号